粉体行业在线展览
ECM-AP 05
60-70万元
华尔宝(WAB)
ECM-AP 05
41
适用于高产量和高粘度产品
提供金属和陶瓷款式
研磨腔内研磨介质密度分布均匀,可实现最高效率
可使用 ø 0.1 mm 以下的研磨介质进行高效研磨
加速器使研磨珠产生有力的流体运动,从而降低的能耗
整体优化流量控制,实现最佳颗粒停留时间分布
适用于生产所有类型的纳米悬浮液
适合通道模式和循环模式
通过对研磨腔进行有效冷却,可研磨对温度敏感的产品
机器操作简单且符合人体工程学原理,可实现最快的产品更换
屏幕寿命长
在更换产品时将清洁剂的成本降至最低
低噪音
多种控制解决方案
高效实验室珠磨机是研发小批量产品新配方和计算产品放大系数的理想之选。
它能达到理想的纳米级粒径分布,并能以高效的能量输入完成非常困难的分散和研磨任务。它是 DYNO®-MILL ECM-AP 系列的放大模型。其机座允许使用带有 DYNO®-UNIVERSAL 技术的第二个研磨缸,在实验室中具有非常高的灵活性和成本效益。
研磨介质分离系统的特点是流动优化和导向研磨介质回路。研磨介质在导流环的轴向引导下通过筛网表面。然后,DYNO®-ACCELERATOR DSE 将研磨介质输送回导流环,而不会将其撕裂。
研磨介质在筛面上的轴向引导有助于将较粗的颗粒从其流经的横截面上清除,这也是 DYNO®-MILL ECM-AP 分离系统独特的自清洁效果的基础。
适用于高产量和高粘度产品
提供金属和陶瓷款式
研磨腔内研磨介质密度分布均匀,研磨效率高
可使用 ø 0.1 mm 以下的研磨介质进行高效研磨
加速器使研磨珠产生有力的流体运动,从而降低的能耗
整体优化流量控制,实现理想的颗粒停留时间分布
适用于生产所有类型的纳米悬浮液
适合通道模式和循环模式
通过对研磨腔进行有效冷却,可研磨对温度敏感的产品
机器操作简单且符合人体工程学原理,可实现快速的产品更换
筛网寿命长
在更换产品时,可降低清洁剂的使用成本
低噪音
多种控制解决方案
DYNO®-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR®化学反应器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO®-MILL KD系列
DYNO®-MILL NPM Pilot
DYNO®-MILL MULTI LAB
dyna-MIX® CM 1000