粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
GNAD-E
直接联系
北京艾姆希半导体科技有限公司
北京
面议
GNAD-E
1131
加工精度高，TTV≤2 um，RA：≤0.1 nm
适用6寸以下及各类异形晶圆加工
具备盘型蓝牙监控并自动修复功能
夹具压力精度达到2g/cm²，可订制加压模块
效率高，支持*多四工位同时加工
可编辑可存储至少100条工艺程序
具备盘温监控、自动冷却等温度控制功能
研磨抛光一体机，操作便捷，兼容性强大
Qgrind 100
Chiron 250DA
搓擦机
SMAP-Ⅱ
ED16B
GPW/GAWseries
双面研磨/抛光6S、9B、9.6B系列
金相试样磨抛机
MECPOL-PA进口自动磨抛机
SiC CMP抛光设备
GY-XB70下摆机
PG6镜面抛光机
