粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
CDP-800
直接联系
北京艾姆希半导体科技有限公司
北京
面议
CDP-800
29
抛光头可实现3 zone压力控制
全系列机型可加工2-8寸及异形晶圆
纳米级别移除精度
抛光粗糙度、速率、一致性行业**
具备精准的光学EPD终点检测功能
抛光头压力可调制高达12psi
可编辑和储存至少100条以上工艺菜单
可实现盘温监控、自动冷却、自动冲洗
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
