粉体行业在线展览
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卧式LPCVD
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赛瑞达智能电子装备（无锡）有限公司
江苏
面议
赛瑞达
卧式LPCVD
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设备主要特点
◎ 采用先进的闭环控制系统，压力稳定无波动
◎ 高精度温控系统
◎ 工艺薄膜均匀性优异
★支持SECS/GEM通讯
主要技术指标
◎ 适用硅片尺寸:4~6"
◎ 工作温度范围:350℃~800℃
◎ 恒温长度:300-1100mm(可定制)
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机
