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Mono- and Multi-crystalline wafer lifetime measurement device
应用范围:用于精密材料研发的单晶和多晶片的寿命测量
●灵敏度:外延片不可见的缺陷和检测的 灵敏度的可视化
●测量速度:6英寸硅晶圆片,1mm分辨率 ,小于5分钟
●使用寿命: 20纳秒到几毫秒
●污染测定:源自炉和设备的金属(Fe)污染
●测量能力:从初始切割的晶圆片到完全加工的样品
●灵活性:固定测量头允许外部激光与触发器耦合
●可靠性: 模块化和紧凑的台式仪器,更高的可靠性和正常运行时间> 99%
●重现性: > 99.5%
●电阻率:不需要频繁校准
MDPmap是一个紧凑的台式无触点电子特性的离线生产控制或研发的工具。可测量参数如载流子寿命、光电导性、电阻率、缺陷信息在稳态或注入范围宽短脉冲励磁(μ-PCD)。自动化的样品识别和参数设置可以方便地适应各种不同的样品,包括在不同的制备阶段,从生长的晶圆片到高达95%的金属化晶圆片的外延片和晶圆片。。
MDPmap的主要优点是其高度的灵活性,它允许集成*多4个激光器,用于从超低注入到高注入的依赖于注入水平的寿命测量,或者使用不同的激光波长提取深度信息。包括偏置光设施以及μ-PCD或稳态注入条件的选项。可以使用不同的图进行客户定义的计算,也可以导出原始数据进行进一步的评估。对于标准计量任务,可用一个预定义的标准,使常规测量只需按一个按钮。