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12吋薄膜沉积设备 PECVD-ZARVIS
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盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
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12吋薄膜沉积设备 PECVD-ZARVIS
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ZARVIS应用于逻辑和存储客户的多个节点制程，优良的结构设计使腔体有高真空的密闭环境，工艺气体分布均匀，等离子体稳定，高效率RPS（Clean）和均匀的加热功能等特点。
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