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CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉积设备
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盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
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CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉积设备
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Quadiance 系统适用于6/8 氧化硅、氮化硅、氮氧硅介质层等薄膜沉积工艺。平台采用多腔体架构，每个腔体可以实现2片晶圆同时工艺，提升系统WPH。广泛应用于集成电路，化合物半导体，功率半导体以及MEMS等领域。
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