粉体行业在线展览
面议
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是针对液晶显示器和触摸屏大批量生产的一款自动曝光设备
特点:
*具有较高的设备稳定性。
*具有较高的生产对应能力和处理速度 24sec/Sheet
*搭载USHIO自主研发的光学系统。
*具有较好的对位识别系统,提高并完善了对位成功率,进一步提高了生产效率。
用途:
*液晶显示器和触摸屏生产工艺的大批量生产。
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
定制
Pentagon Qlll
HSE系列等离子刻蚀机