粉体行业在线展览
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— A型
面议
华宇东升
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— A型
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微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— A型 一款典型的微波等离子体化学气相沉积装置,可以在50mm直径的衬底范围内进行金刚石单晶和多晶生长。 应用领域:工具、热沉、光学窗口、宝石等。
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性能特点:
֍**功率达到6kW ֍微波反应腔新型设计,功率密度大 ֍产品沉积速率快、沉积质量高 ֍采用水冷全金属腔体 ֍采用高效散热的样品台 ֍设备安全性高、耐用性高、可靠性强 ֍多参数实时监测,PLC屏幕控制,简捷的人机交互界面 |
主要技术参数:
微波功率 | 0.6kW -6kW 连续可调 2.45GHz |
反应腔 | 圆柱形反应腔 |
真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
气体质量流量控制 | 标配5路,可定制 |
工作气压 | 1kPa - 30kPa |
样品台 | 一层升降 |
基板台类型 | 水冷式基板台 |
衬底托 | **支持60mm直径圆台面积稳定沉积 |
操作系统 | PLC控制系统 |
样平台升降功能 | 有,可选 |
样品台旋转功能 | 有 |
旋转模式 | 连续旋转、间歇旋转 |
旋转角度 | 360° |
旋转速度 | 0-20转/分,可调节 |
MPCVD设备培育的CVD晶种
高稳定程控微波源
微波传输系统
微波等离子体火炬(MPT)
微波等离子体源
电子回旋共振等离子体(ECR)系统
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— C型
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