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TFC-6650C化学气相沉积(MPCVD)设备
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碳方程
TFC-6650C化学气相沉积(MPCVD)设备
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TFC-6650C,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是***的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。