粉体行业在线展览
CD06-XS1C1D1A
面议
大族半导体
CD06-XS1C1D1A
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主要特点:
设备特点:
1、占地小、稳定性高、操作与维护方便
2、易于操作,界面友好
3、保养维护方便
主要参数:
主要参数 | 片盒数量 | 2CS |
wafer 类型 | 圆片 | |
wafer 尺寸(mm) | 50-150 | |
产能(WPH) | 50 | |
衬底材料 | Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4 | |
适用工艺 | g-line、i- line、PI |
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