粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
12吋薄膜沉积设备
直接联系
盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司
浙江
面议
盛吉盛
12吋薄膜沉积设备
28
HDPCVD通过特殊的硬件和射频系统设计，可以获得比传统PECVD高1至2个数量级的高密度等离子体，因其填充能力强、薄膜质量好的特点广泛应用于浅槽隔离、介质层填充、钝化层填充等具有一定深宽比的结构中。
Sharpla600 系列缺陷检测设备
U380S 系列缺陷检测设备
缺陷检测设备 U315 系列
PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉积设备
CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉积设备
6/8吋薄膜沉积设备 CVD-Expediance
RTA-Brispark12吋快速热处理设备
12吋快速热处理设备 RTP-XPEED-IDP
12吋薄膜沉积设备
12吋薄膜沉积设备 PECVD-ZARVIS
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
