粉体行业在线展览
电子束蒸发设备—E-Beam-HV
面议
致真精密
电子束蒸发设备—E-Beam-HV
447
电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。
性能参数
晶圆尺寸 | 4inch~8inch |
极限真空 | 优于1×10-7mbar |
温控 | RT-800℃ |
电子束枪 | 多坩埚旋转电子束枪,可选配坩埚数量和容量(标配,10KW,8×20cc) |
六大特色 懂你所需
企业/高校性能之选
测试案列
随着超导量子计算的发展,高校实验室和企业对于超导量子电路的核心器件——约瑟夫森结有着极高的制备要求。该设备可专门用于制备Al基、Nb基等各类约瑟夫森结,以下是制备的约瑟夫森结的光学照像。
约瑟夫森结的光学图像
温度测试
下图是加热台温度测试图,加热台可以实现**800摄氏度的晶圆加热,并且电子束蒸发过程中温升较低,满足不同材料的沉积需求。
观察窗挡板
倾斜式高温样品台
蒸发源
圆形互联设备(外置机械臂、内置机械臂)
两个镀膜系统直接互联设备
超高真空管道传输设备
晶圆真空传输平台—VTM
量产型磁控溅射设备—MSI-200
生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV
生产型磁控溅射设备—MSI-100-HV
量产级多功能薄膜沉积设备
分子束外延设备—MBE-400