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坩埚下降设备

坩埚下降设备

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山东力冠微电子装备有限公司

山东

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面议

品牌:

山东力冠

型号:

坩埚下降设备

关注度:

362

产品介绍

产品概述/Product Introduction:

♦ 主要用于4-8英寸砷化镓、磷化铟等化合物单晶生长

Mainly used for single crystal growth of 4-8 inches of gallium arsenide, indium phosphide and other compounds

♦ 设备由机架、安瓿支撑机构、加热器和控制系统组成

The equipment consists of a rack, ampoule support mechanism, heater and control system

♦ 能够实现安瓿移动和转动的精确控制

Accurate control of ampoule movement and rotation can be realized

 

产品特点/Product Characteristics:

♦ 工业计算机控制系统(WINDOWS系统界面,操作方便简洁)

Industrial computer control system (WINDOWS system interface, easy and concise operation)

♦ 关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性

The key parts are imported to ensure the high reliability of the equipment

♦ 控温精度高,温区控温稳定性好

High temperature control precision and good temperature control stability in temperature zone

♦ 具有断电报警、超温、欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能

lt has various safety protection functions such as power failure alarm, over-temperature alarm, under-tempera-ture alarm and extreme over-temperature alarm

♦ 速度可调的梯形波、三角波及正弦波等旋转功能

Rotation functions such as trapezoidal wave, triangular wave and sine wave with adjustable speed

♦ 单晶质量高

High quality single crystal

 

技术指标/Technical Indicators

晶片类型:4/6英寸

Wafer type: 4/6 inches

工作温度范围:1100℃

Operating temperature range: 1100℃

加热器**温度:1250°C

Maximum heater temperature: 1250℃

控温精度:土0.5℃

Temperature control accuracy: 土0.5℃

控温段数:4段

Number of temperature control sections: 4 sections

炉腔压力:4MPa

Furnace chamber pressure: 4MPa

 

应用范围/Scope:

♦ 广泛用于材料的绀蜗下降的单晶生长

Bridgman-descending single crystal growth widely used in materials


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