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化学气相沉积设备

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品牌：

研博智创

型号：

化学气相沉积设备

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产品介绍

化学气相沉积设备基片台尺寸：Φ200mm; 电源:RF 500W; 真空腔室结构：立式上开盖结构；真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；

化学气相沉积设备产品概述 1.适用范围：化学气相沉积设备适用于各单位实验室、高校实验室、教学等项目的科研、产品中试。 2.产品优点及特点：适用于硬涂层等膜的制备，以及等离子体的清洗。 3.主要用途:化学气相沉积设备主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介电、金属膜。

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