粉体行业在线展览
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF700
面议
北京泰科诺
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF700
16
设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF700
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ700mmxH700mm
真空系统:高真空泵组系统
基片台尺寸:350mm²×350mm² 方形基片台(旋转、升降可选)
衬底温度:600 ~ 1100℃
大面积平板镀膜设备JCPF3500
真空退火炉/钎焊炉VTHK350
真空电弧炉VDK250
多功能磁控离子溅射复合镀膜机TSU650
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF700
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF600
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
高真空磁控溅射镀膜设备JCP350
电阻蒸发镀膜设备
高真空磁控溅射镀膜设备JCP200