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微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— A型
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微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— A型
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微波等离子化学气相沉积（MPCVD）系统 —— A型 一款典型的微波等离子体化学气相沉积装置，可以在50mm直径的衬底范围内进行金刚石单晶和多晶生长。 应用领域：工具、热沉、光学窗口、宝石等。
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性能特点：
֍**功率达到6kW ֍微波反应腔新型设计，功率密度大 ֍产品沉积速率快、沉积质量高 ֍采用水冷全金属腔体 ֍采用高效散热的样品台 ֍设备安全性高、耐用性高、可靠性强 ֍多参数实时监测，PLC屏幕控制，简捷的人机交互界面 |
主要技术参数：
| 微波功率 | 0.6kW －6kW 连续可调 2.45GHz |
| 反应腔 | 圆柱形反应腔 |
| 真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
| 气体质量流量控制 | 标配5路，可定制 |
| 工作气压 | 1kPa - 30kPa |
| 样品台 | 一层升降 |
| 基板台类型 | 水冷式基板台 |
| 衬底托 | **支持60mm直径圆台面积稳定沉积 |
| 操作系统 | PLC控制系统 |
| 样平台升降功能 | 有，可选 |
| 样品台旋转功能 | 有 |
| 旋转模式 | 连续旋转、间歇旋转 |
| 旋转角度 | 360° |
| 旋转速度 | 0-20转/分，可调节 |
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