粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

专用设备

>前道涂胶显影设备

前道涂胶显影设备

前道涂胶显影设备

直接联系

盛美半导体设备(上海)股份有限公司

美国

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

盛美半导体

型号:

前道涂胶显影设备

关注度:

743

产品介绍

主要优势

自主**保护立体交叉结构(**号:202211541793.9),提高设备产出率WPH

采用自主**设计,优化整机内部气流分布,减少颗粒污染

精准控制涂胶量,减少光刻胶的消耗

具备多次回吸功能,能够有效防止喷嘴口结晶

腔体配备独立排气装置,能够提高光刻胶膜厚的均一性,减少Wet-Particle

配备自主研发的多分区控制的高精度热板

自主研发的控制软件,可优化晶圆传输路径,缩短传输时间

搭载缺陷检测功能,可及时发现问题

搭载机械手工位auto-teaching功能,提高效率

支持主流光刻机接口


特性和规格

可适用于300mm晶圆清洗

可配置4个Loadport,多至8个涂胶腔体和8个显影腔体

可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体,每小时晶圆产能可达300片;

腔体温度:23°C ±0.1°C ,烘烤范围为50°C至250°C


产品咨询

前道涂胶显影设备

前道涂胶显影设备

盛美半导体设备(上海)股份有限公司

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

前道涂胶显影设备 - 743
盛美半导体设备(上海)股份有限公司 的其他产品

FLOW

专用设备
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号