粉体行业在线展览
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显影设备
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盛美半导体设备（上海）股份有限公司
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盛美半导体
显影设备
636
应用领域
• 曝光后烘烤 (PEB)
• 显影
• 坚膜
三种显影方式集于一体
灵活的喷嘴扫描系统
技术先进，使用便捷
精确的药液控制
兼容8英寸和12英寸晶片
可配至*多四个显影腔体
双面工艺, 每个显影腔体内配有1到5套液体喷嘴
2到8个热盘
2到6个冷却盘
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
NVT-HG型 单晶生长炉
