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喷射化学气相沉积设备(Spray CVD)

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上海载德半导体技术有限公司

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产品介绍

喷射化学气相沉积(Spray CVD)

产地:法国AS;

- 主要用于太阳能电池氧化物、半导体、电光涂层、绝缘层、超导体、固体燃料电池等的材料制备及薄膜沉积。

- 2inch小型喷射化学气相沉积设备,主要用于实验室。沉积及退火在同一个腔体内完成。

性能和特点:

- 温度范围:室温 ~ 1200摄氏度;

- *快升温速度:250摄氏度/秒;

- 前驱体混合能力(带有Atokit喷雾器);

- **真空度:10-6 Torr;

- 样品尺寸:不大于2英寸;

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