粉体行业在线展览
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该产品采用半导体温差电致冷器件为冷源,机械制冷为其散热源,不需要另接循环水源,并配有**致冷器使用的开关电源,致冷器件接通直流电流后,通过能量转换来达到致冷的目的。本仪器控温采用PID方法,控制快速平稳。
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037