粉体行业在线展览
面议
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量产型 薄膜封装用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体((Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生产的薄膜封装(TFE).可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷(R2R)封装.
在OLED Panel厂产线有广泛应用!
主要应用:
-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层
-Micro-OLED封装层
-柔性衬底用阻挡层
-OLED封装层
-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷(R2R)ALD工艺:
特点:
1.ALD高k介质,厚度均匀性好,保形步进覆盖。
2.先进的工艺套件和小体积的短周期室
3.实现了ALD机构(行波法)
4.小脚印全集成工艺模块
5.过程控制方便,供气线路长度小。
应用尺寸:370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037