粉体行业在线展览
全自动晶圆开槽/全切设备
面议
江苏元夫
全自动晶圆开槽/全切设备
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设备特点
适合用于Low-k、氮化铝(AlN)、氧化铝陶瓷等材料的激光开槽
适合用于硅、砷化镓(GaAs)等材料,厚度200μm以下薄晶圆无崩边高品质全切
8/12英寸兼容,支持纳秒/皮秒
双路多beam并行加工
实现10-90µm开槽宽度连续可调
可加工20μm以内超窄切割道
整机精度:<±2µm
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
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