粉体行业在线展览
激光钻孔解决方案 半导体晶圆切割
面议
江苏元夫
激光钻孔解决方案 半导体晶圆切割
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设备特点
处理速度快;超高圆度;孔壁光滑;边缘平整、光滑、无毛刺;陡峭的侧壁(高锥度);
显著降低碳化.
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
HSE系列等离子刻蚀机