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科研级磁控溅射设备—MS-400
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合肥致真精密设备有限公司
安徽
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致真精密
科研级磁控溅射设备—MS-400
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MS-400磁控溅射设备是一款多功能多靶磁控溅射系统，具有超高真空，单原子层沉积精度，设备维护简单的特点。MS-400系统标配6个2inch共焦超高真空阴极，满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单，运行稳定。
性能参数
晶圆尺寸 | 4inch向下兼容 |
镀膜均匀性 | 优于±2% |
极限真空 | 优于1×10-9mbar（金属密封） 优于1×10-8mbar（胶圈密封） |
温控 | RT-800℃，可选**1200℃ |
阴极数量 | 6~7个2inch，共焦溅射 |
客户案例1
通过本MS-400科研级磁控溅射，制备了具有强PMA的Mo基结构的单自由层和双自由层MTJ磁隧道结薄膜。
观察窗挡板
倾斜式高温样品台
蒸发源
圆形互联设备（外置机械臂、内置机械臂）
两个镀膜系统直接互联设备
超高真空管道传输设备
晶圆真空传输平台—VTM
量产型磁控溅射设备—MSI-200
生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV
生产型磁控溅射设备—MSI-100-HV
量产级多功能薄膜沉积设备
分子束外延设备—MBE-400
