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脉冲激光沉积设备—PLD-400
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合肥致真精密设备有限公司
安徽
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致真精密
脉冲激光沉积设备—PLD-400
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脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。
性能参数
晶圆尺寸 | 2inch |
极限真空 | 5×10-9mbar |
温控 | RT-1200℃ |
| 靶台数量 | 6个1inch 靶材或3个2inch靶材 靶台公自转设计（可单独旋转） |
| 靶材更换 | 原位更换靶材 |
| 激光源 | 准分子激光器 |
| 常用材料 | BFO、SRO、VO2等 |
| 占地面积 | 3m L*2m W*2m H |
| 可选 | 自动传输、反应沉积、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等 |
观察窗挡板
倾斜式高温样品台
蒸发源
圆形互联设备（外置机械臂、内置机械臂）
两个镀膜系统直接互联设备
超高真空管道传输设备
晶圆真空传输平台—VTM
量产型磁控溅射设备—MSI-200
生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV
生产型磁控溅射设备—MSI-100-HV
量产级多功能薄膜沉积设备
分子束外延设备—MBE-400
