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UP-510 碟形腔式MPCVD设备
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优普莱
UP-510 碟形腔式MPCVD设备
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UP-510系列碟形腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作。沉积面积**可达3英寸,生产效率高,适合于生长大面积金刚石薄膜,也可用于单晶多晶金刚石的大批量生产。
1.大功率微波系统 | |
微波频率 | 2450±25MHz |
输出功率 | 0.6kw~10kw 连续可调 |
微波泄漏 | 离设备 5cm 处,微波泄漏≤ 2 mw/cm2 |
2.真空系统 | |
工作气压范围 | 10~300Torr |
自动稳压范围 | 40~250Torr |
真空泵 | 4.4L/s 旋片式真空泵 |
系统漏率 | <1x10-9 Pa*m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测) |
腔体保压能力 | 每 24 小时压升小于 0.5 Torr |
本底极限真空 | 1Pa |
3.真空反应腔及基片台 | |
反应腔材料及结构 | 碟形不锈钢反应腔 |
观察窗口 | 四个 CF 端口, 90°分布。 |
测温窗口 | 四个 CF 端口, 90°分布。 |
自动控制上盖开关 | |
钼基片台直径 | **150mm,建议直径范围 60mm ~75mm |
样品台可上下移动 | |
4.气路 | |
系统自带四路 MFC | |
选用日本进口流量计及流量控制阀 | |
5.测温系统 | |
选用德国品牌红外测温,范围:300~1300 摄氏度 | |
6.软件 | |
配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏,用户操作界面友好,所有操作均可在触摸屏上完成 | |
自带缺水,缺气,电源缺相,火球跳变,过温过载,打火等自动保护 | |
生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方 | |
系统自带全自动抽气,点火,升温,降温等预设流程,用户操作简便 | |
全自动温度控制,气压控制,极大减轻系统操作员的工作量 |