粉体行业在线展览
无掩膜光刻机
面议
安徽泽攸
无掩膜光刻机
330
泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。
技术特点
▲ 纳米压电位移台拼接技术
▲ 红光引导曝光,所见即所得
▲ OPC修正算法优化图形质量
▲ CCD相机逐场自动聚焦
▲ 灰度匀光技术
光路远离结构图
主要指标
应用案例
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
HSE系列等离子刻蚀机