粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>无掩膜光刻机

无掩膜光刻机

无掩膜光刻机

直接联系

安徽泽攸科技有限公司

安徽

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

安徽泽攸

型号:

无掩膜光刻机

关注度:

330

产品介绍

    泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。

    技术特点

    ▲ 纳米压电位移台拼接技术

    ▲ 红光引导曝光,所见即所得

    ▲ OPC修正算法优化图形质量

    ▲ CCD相机逐场自动聚焦

    ▲ 灰度匀光技术

    光路远离结构图

    光路远离结构图

    主要指标

    技术参数.png

    应用案例

    应用案例

    应用案例

    应用案例


产品咨询

无掩膜光刻机

无掩膜光刻机

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

无掩膜光刻机 - 330
安徽泽攸科技有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2025 版权所有 - 京ICP证050428号

联系电话
关闭
虚拟号将在180秒后失效,请在有效期内拨打
为了保证隐私安全,平台已启用虚拟电话,请放心拨打.(暂不支持短信)
使用微信扫码拨号
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系
*需求描述:
*单位名称:
*联系人:
*联系电话:
Email:
(请留下您的联系方式,以便工作人员及时与您联系!)