Esther E320R主要用于体硅外延、埋层外延、选择性外延等多种特色工艺的运行。该设备主要由传输系统模块、工艺腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力、气流场与温场控制，保证了外延片良好的工艺性能，保证成膜质量。传输模块可兼容多种晶圆尺寸，同时满足多种类的工艺需求。
设备特点
•专业的气流场和温度场设计，获得良好的工艺性能
•高精度的压力控制系统，保证成膜质量
•稳定的传输和电机升降系统，保证工艺结果一致性
•友好的人机交互和全面的安全性设计，保障系统稳定、安全、高效
•具有单腔和多腔两种机型，可满足不同客户需求
产品应用
•晶圆尺寸：6/8英寸兼容
•适用材料：硅
•适用工艺：体硅外延、埋层外延、选择性外延
•适用领域：集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域