仪器简介：

应用：

◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺。

技术参数：

SKY公司的C1 PECVD设备是买断Novellus C1型号的技术授权在国内生产的PECVD设备，所有性能指标均和美国原产地Novellus C1相同，配件国产率超过70%。 SKY公司依托Novellus公司的技术授权，拥有本地及回国人员组成的强大技术团队，目前产品主要应用于4~6”主流硅半导体、化合物半导体及MEMS领域。

主要特点：

◆ 高度稳定的均匀性；

◆ 高度稳定的折射率；

◆ Novellus技术授权；

◆ 零部件国产化及稳定的零部件供应；

◆ 菜单式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自动沉积工艺；

◆ 真空室（沉积室）等离子体自动刻蚀清洗；

◆ 双频RF/LF电源发生器；

◆ 阻抗匹配器自动调节；

◆ 单腔（七片）、连续（七十五片）自动转换沉积。