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TFC-6650C微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备

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碳方程

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TFC-6650C微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备

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301

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特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。

获取更多信息，请访碳方程新材料（山西）有限公司网站

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TFC-6650C微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备

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