粉体行业在线展览
ASML二手DUV光刻机
面议
佳鼎半导体
ASML二手DUV光刻机
381
TWINSCAN XT:450G 365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具,设计用于批量生产分辨率低至 220-nm 及以上的关键 i-line 应用。TWINSCAN 平台的双晶圆台技术使一个晶圆的曝光和下一个晶圆的对齐和映射能够并行进行,从而几乎消除了开销时间并允许对晶圆进行连续图案化。
此外,高强度 5.5 kW Hg 灯和快速台通过*小化每个场的曝光扫描时间和场之间的步进时间来确保**生产力。液位传感器与 TWINSCAN 调平方法相结合,几乎消除了内部芯片和边缘芯片之间的差异,并确保整个 300 毫米晶圆的高良率。高吞吐量和产量与快速的标线交换时间和批量流式传输相结合,可提供*低的运营成本。
该工具出色的叠加和成像功能允许将非关键 KrF 层转换为 i-line,从而显着节省成本。
槽式清洗机 Ultron B200
单片式湿法清洗设备 Ultron S200/S300
全自动晶圆清洗机 AWS150
SCREEN二手清洗设备WS-820L
SUSS半自动湿法处理设备AD12
球差场发射透射电子显微镜 HF5000
超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列
AMAT 半导体检测设备 SEMVision G2
KLA无图案晶圆缺陷检测系统Surfscan SP2
TOPCON拓普康芯片外观检测设备Vi4202
PVA TEPLA / TECHNICS GIGA 690二手现货刻蚀机
PVA TEPLA / TECHNICS GIGABATCH 360M刻蚀机