粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
PD-450/600H热丝化学气相沉积设备
直接联系
武汉普迪真空科技有限公司
湖北
面议
普迪真空
PD-450/600H热丝化学气相沉积设备
44
产品摘要
该设备采用热丝法化学气相沉积技术，主要用来生长金刚石膜、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等。该设备适合于小批量生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜、刀具表面生长金刚石膜、纳米金刚石膜等。
产品介绍
设备特点：
★升降结构平稳，样品台水平度好，利于生长较均匀厚膜丝架采用特殊结构，热丝的平行度好能长期稳定工作
★更合理的气路布局及更贴合生产工艺的细节考虑，可长期稳定工作
★软件配置西门子PLC+10寸西门子触摸显示屏，操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成
★实现φ100-300mm基片范围内均匀沉积
设备参数：
★腔体尺寸：φ450×H350mm/φ650×H500mm
★基片台：150mmx150mm/200mmx200mm
★温度：热丝温度1800℃-2500℃衬底温度600℃-1000℃,电源型式专用热丝电源15/25kw
PD-600Q射频等离子清洗机
PD-500/600电子束真空蒸镀设备
PD-400高真空蒸镀设备
PD-400C高真空磁控溅射
PD-400S/450S高真空蒸镀设备(手套箱）
PD-450CS/550CS高真空磁控溅射设备
ALD-100原子沉积设备
PD-500S/800S高真空蒸发蒸镀设备
PD-60/80MP微波等离子体化学气相沉积设备
PD-450/600H热丝化学气相沉积设备
PD-450/650Z直流等离子喷射化学气相沉积设备
PD-500C/600C磁控溅射镀膜设备
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
