半导体行业专用仪器-PD-500C/600C磁控溅射镀膜设备-武汉普迪真空科技有限公司-产品详情

PD-500C/600C磁控溅射镀膜设备

直接联系

武汉普迪真空科技有限公司

湖北

产品规格型号

参考报价：

面议

品牌：

普迪真空

型号：

PD-500C/600C磁控溅射镀膜设备

关注度：

产品介绍

产品摘要

该设备配备了多个磁控溅射源，能够沉积金属、半导体、介质材料，并可用于溅射多层薄膜和共溅合金薄膜。

产品介绍

设备特点：

★一体化设计精细布局，更节省的空间和更精致的外形，可添加进样功能

★4支2-4英寸磁控溅射靶，可溅射2-8寸的硅片，托盘8英寸内均匀性优于±3％~±5%

★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑+PLC全自动控制可选

设备参数：

★腔体尺寸（L×W×Hmm)：1450×1250×1850/2200×1700×2200

★设备尺寸（L×W×Hmm)：500×500×500/600×600×500

★基片台：衬底**加热温度500-800℃

★真空极限：5×10-5Pa

★抽速保压：8×10-4Pa≤30min保压12小时≤8pa

★托盘均匀性优于±3％~±5%

★溅射靶枪四个（2-3英寸/2-4英寸）溅射尺寸2-6英寸

产品咨询

PD-500C/600C磁控溅射镀膜设备

请填写您的姓名：*

请填写您的电话：*

请填写您的邮箱：*

请填写您的单位/公司名称：*

请提出您的问题：*

您需要的服务：

询盘报价、价格查询

发送产品资料

与您电话联系

发送

中国粉体网保护您的隐私权：请参阅我们的保密政策来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。您继续访问我们的网站，表明您接受我们的使用条款