HORIC L200 LPCVD系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，可根据不同客户需求进行配置。
设备特点
•可根据客户需求配置多工艺组合的机台
•高可靠性、稳定性
•安全性能高，设备及所使用的元件符合国家和国际标准
•可提供先进成熟的MES系统解决方案
•良好的工艺技术支持
产品应用
•晶圆尺寸：4、6、8 英寸
•适用材料：硅、碳化硅、硅基氮化镓
•适用工艺：氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、PSG、BPSG
•适用领域：化合物半导体、衬底材料、科研领域