粉体行业在线展览
Ring
面议
志浩航
Ring
1044
特点:高精度、高平面度、全球先进的电镀工艺
应用:AI芯片、CPU、GPU、服务器芯片、基站芯片
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
plane CT(3D)
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
M82200-10UM型PECVD 镀膜设备