henom Pharos G2 台式场发射扫描电镜

产品定位

飞纳 Phenom Pharos G2 为台式场发射扫描电镜，面向磁性材料、功能材料等领域，提供颗粒、晶粒及表面缺陷的高分辨形貌表征。

技术参数：

产品型号：Phenom Pharos G2

产品全称：Pharos 台式场发射电镜

产品类型：台式场发射扫描电镜

光学放大：27 - 160 X

电子光学放大：2,000,000 X

分辨率：优于 1.5 nm

电子枪：肖特基热场发射电子枪

光学导航相机：彩色

加速电压：1 kV - 20 kV 连续可调

真空模式：低 / 中 / 高三种模式

探测器：背散射探测器、二次电子探测器

可选探测器：能谱探测器

功能特点

• 高分辨成像：肖特基热场发射电子枪，电子光学放大 2,000,000 X，分辨率优于 1.5 nm

• 宽压可调：加速电压 1 kV–20 kV 连续可调，适配多类样品

• 多真空模式：低 / 中 / 高三种模式，覆盖导电与非导电材料

• 双探测器标配：背散射探测器 + 二次电子探测器，满足形貌与成分衬度需求

• 元素分析扩展：可选配能谱探测器，实现微区元素定性分析

• 台式部署：紧凑结构，适合科研、研发及检测实验室

应用领域

磁性材料表面形貌分析 / 磁粉颗粒观察 / 功能材料研发 / 材料检测 / 企业质控

常见问题

Q：适用样品类型？A：纳米材料、半导体、碳材料、催化剂、陶瓷、锂电材料、光伏材料、磁性材料等高分辨形貌观察场景。

Q：是否支持元素分析？A：可选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素分析。

Q：如何获取报价？A：配置、探测器选项及应用需求不同，价格有所差异。可通过平台询价入口获取官方选型建议并预约试样。

咨询入口

如需了解 Phenom Pharos G2 在磁性材料形貌分析中的配置方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价/留言入口提交样品类型与测试需求，获取官方选型建议并预约试样。