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ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
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ASML 二手ArF浸没式光刻机XT:1900Gi
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TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。
XT：1900Gi采用蔡司星石1900i浸没镜头。这是现有的大型ArF镜头，在1.35NA时，它推动了水基ArF浸入式平版印刷达到极限。结合ASML的Ultra-k1产品组合，它提供了行业*低的可用k1值，它可以实现40nm及以下的半间距分辨率。
XT：1900Gi采用新的测量和曝光周期，它为浸入式光刻设定了一个新的基准，每小时生产131个晶片。
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