半导体行业专用仪器-Primo nanova®12英寸刻蚀设备-中微半导体设备（上海）股份有限公司-产品详情

Primo nanova®12英寸刻蚀设备

直接联系

中微半导体设备（上海）股份有限公司

上海

产品规格型号

参考报价：

面议

品牌：

中微公司

型号：

Primo nanova®12英寸刻蚀设备

关注度：

产品介绍

Primo nanova®是中微基于电感耦合（ICP）技术研发的12英寸刻蚀设备。它可以配置多达六个刻蚀反应腔和两个可选的除胶反应腔。其中刻蚀反应腔采用了轴对称设计，具有高反应气体通量。ICP发射天线采用了中微具有自主知识产权的低电容耦合3D线圈设计，可实现对离子浓度和离子能量的高度独立控制。反应腔内部涂有高致密性、耐等离子体侵蚀材料，以获得更高的工艺重复性和生产率。设备还采用了多区细分的高动态范围温控静电吸盘，使加工出的集成电路器件的关键尺寸达到高度均匀性。Primo nanova适用于1X纳米及以下的逻辑和存储器件的刻蚀应用。

产品特点

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泵

精密的腔体温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺

多区细分的高动态范围温控静电吸盘

阻抗可调聚焦环设计

切换式双频偏压系统

可选的集成除胶反应腔

可选的Durga ESC

竞争优势

离子浓度和离子能量独立可控

高排气量和更宽的工艺窗口

优秀的刻蚀均匀性

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率，低生产成本（CoO）

获取更多信息，请访中微半导体设备（上海）股份有限公司网站

产品咨询

Primo nanova®12英寸刻蚀设备

请填写您的姓名：*

请填写您的电话：*

请填写您的邮箱：*

请填写您的单位/公司名称：*

请提出您的问题：*

您需要的服务：

询盘报价、价格查询

发送产品资料

与您电话联系

发送

中国粉体网保护您的隐私权：请参阅我们的保密政策来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。您继续访问我们的网站，表明您接受我们的使用条款