粉体行业在线展览
PRISMO UniMax® MOCVD设备
面议
中微公司
PRISMO UniMax® MOCVD设备
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中微具有自主知识产权的PRISMO UniMax® MOCVD设备可配置多达4个反应腔,可同时加工108片4英寸或40片6英寸高性能氮化镓基蓝绿光Mini LED外延晶片,通过石墨盘的调整,可扩展至同时加工164片4英寸或72片6英寸外延晶片,其工艺能力还可延展到生长8英寸外延晶片。每个反应腔都可以独立控制,这一创新设计具备优异的生产灵活性。中微PRISMO UniMax® MOCVD设备配置了新颖的局部温度补偿加热系统,专为高性能Mini LED量产而设计,具备优异的产出波长均匀性及产出稳定性。此外,PRISMO UniMax® MOCVD设备配置了785mm大直径石墨托盘,极大地提高了设备产能,并有效地降低了Mini LED外延片的生产成本。
自主的实时监控系统
精准的参数控制
自动化的控制与维护功能
符合半导体标准的软件控制系统
可独立控制的反应腔运行模式 新颖的局部温度调控加热系统 优异的LED波长均匀性竞争优势
Plasma Scrubber等离子式废气处理设备
VOC净化设备
Preforma Uniflex™ CW
PRISMO UniMax® MOCVD设备
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PRISMO A7® MOCVD设备
PRISMO D-BLUE®MOCVD设备
Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
Primo nanova®12英寸刻蚀设备
Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备
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Primo iDEA®双反应台刻蚀除胶一体机
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
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Gasboard-2060
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定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037