粉体行业在线展览
Preforma Uniflex™ CW
面议
中微公司
Preforma Uniflex™ CW
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作为中微公司自主研发的产出效率高且性能优秀的12英寸CVD金属钨设备,Preforma Uniflex™CW可灵活配置多达五个双反应台的反应腔,每个反应腔皆能同时加工两片晶圆,在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时,实现较高的生产效率。Preforma Uniflex™CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案,自主设计优化的分气抽气系统和真空卡盘,具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性,对于弯曲度较大的晶圆,它也具备良好的工艺处理能力。并且其优异的阶梯覆盖率和填充能力,可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。
双反应台及多达五个反应腔的系统
独立小巧的反应空间
高效灵活的工艺调节窗口
自主知识产权的优化混气方案
自主设计的优化气体分配的抽气系统
自主设计的优化真空卡盘的加热台
高生产效率,低生产成本,低化学品消耗 优秀的薄膜均一性和填充能力 优秀的工艺适应性和兼容性 对弯曲度较大的晶圆也具有良好的工艺处理能力竞争优势
Plasma Scrubber等离子式废气处理设备
VOC净化设备
Preforma Uniflex™ CW
PRISMO UniMax® MOCVD设备
PRISMO HiT3® MOCVD设备
PRISMO A7® MOCVD设备
PRISMO D-BLUE®MOCVD设备
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Primo nanova®12英寸刻蚀设备
Primo TSV® 高性能、高产能的深硅刻蚀设备
Primo HD-RIE®新一代电介质刻蚀产品
Primo iDEA®双反应台刻蚀除胶一体机
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
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