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PRISMO A7® MOCVD设备
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中微半导体设备（上海）股份有限公司
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PRISMO A7® MOCVD设备
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中微具有自主知识产权的MOCVD设备PRISMO A7®可配置多达4个反应腔，可以同时加工136片4英寸晶片或56片6英寸晶片，工艺能力还能延展到生长8英寸外延晶片。每个反应腔都可以独立控制，这一设计可以实现优异的生产灵活性。
可独立控制的反应腔运行模式
自主的实时监控系统
精准的参数控制
全自动化处理
符合半导体标准的软件控制系统
Plasma Scrubber等离子式废气处理设备
VOC净化设备
Preforma Uniflex™ CW
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Primo iDEA®双反应台刻蚀除胶一体机
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