eVictor PVD Al设备是一款应用于12英寸集成电路领域的高端PVD设备，系统集成了高温去气、等离子体预清洗、高温Al、TaN、TTN等多种工艺模块，并实现在系统内部的工艺整合。涉及大平台传输、高温静电卡盘、先进磁控溅射源设计、厚铝Whisker Defect控制以及软件控制等多项关键技术。
设备特点
•先进的磁控溅射系统，有效提高薄膜均匀性及靶材利用率
•专业的加热基座和高温静电卡盘设计，具备良好的温度均匀性
•全新双腔传输平台，可配置性强，可支持10个工艺模块
•优秀的Whisker Defect解决方案，降低产品缺陷
•大产能，低运营成本
产品应用
•晶圆尺寸：12英寸
•适用材料：铝、氮化钽、氮化钛、钛
•适用工艺：AlPad、铝线、热铝
•适用领域：集成电路、功率半导体、硅基微型显示