产品特性 / Product characteristics

• 有磁场ICP（ISM）方式-可产生低圧，高密度plasma、为不挥发性材料加工的专用设备。

• 可提供对应从常温到高温（400ºC）的层积膜整体刻蚀、硬掩膜去除的刻蚀解决方案。

• 通过从腔体到排气line、DRP为止的均匀加热来防止沉积物。

• 该设备采用可降低养护清洗并抑制partical产生的构造和材料及加热机构，是在不挥发性材料的刻蚀方面拥有丰富经验的量产装置。

• 实现了长期的再现性、安定性