粉体行业在线展览
RISE
500万以上
RISE
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二次电子图象分辨率 | 1.0 nm @15 keV | 放大倍数 | 4-1,000,000 × |
背散射电子图像分辨率 | 1.0 nm @15 keV | 加速电压 | 0.2~30 kV |
产地属性 | 欧洲 | 仪器种类 | 场发射 |
价格范围 | 500万-700万 |
RISE 是一款新型的关联使用显微技术,结合了扫描电镜和共聚焦拉曼成像。通过RISE可以同时获得超微结构表面分析以及分子化合物的信息。
石墨烯样品的 图像。彩色共聚焦拉曼图像。颜色显示石墨烯层和褶皱。图像参数:μ×μ,×150 像素=22500谱图。采集时间:0.05s/谱图。右侧的是 SEM 图像与共聚焦显微镜拉曼图像叠加。
RISE将扫描电镜和共聚焦拉曼光谱的特征集中在了一台设备上: 可快速、方便的切换SEM和拉曼测量; 可自动移动不同测量位上的样品; 友好的操作界面,集成度高; 测量结果可以与图像叠加; 无论是扫描电镜成像还是拉曼测量结果都不逊于两者独立工作的时候;
VEGA 3 XMU/XMH
TESCAN TIMA-X FEG(GM)
MAIA3
MAIA3
RISE
VEGA3 InduSEM
GAIA3
VEGA 3 Easyprobe
VEGA3 Small Base
MIRA3
TESCAN S8000
场发射扫描电镜 SEM5000
Veritas
Quattro-
Pharos-STEM
INNO-SCAN 3D扫描仪
KYKY-EM8100
EM-30+
Transcend II
Hitachi FlexSEM 1000
略
美国Fauske 快速扫描绝热量热仪-ARSST
MIRA 3 GMU/GMH