飞纳推出的 Phenom Pharos G2 属于台式场发射扫描电镜品类，主要面向光伏材料缺陷检测领域，能够对电池片、薄膜及其他相关材料的微观瑕疵进行观察。

核心性能

• 电子枪类型：肖特基热场发射

• 光学放大范围：27–160 X

• 电子光学放大上限：2,000,000 X

• 分辨能力：优于 1.5 nm

• 加速电压调节范围：1 kV 至 20 kV，连续可调

• 真空环境：低、中、高三种模式可选

• 成像辅助：彩色光学导航相机

• 探测配置：背散射探测器与二次电子探测器为出厂标配；能谱探测器可按需增配

产品特点

1. 搭载肖特基热场发射电子枪，满足高分辨 SEM 成像需求

2. 电子光学放大倍数上限达 2,000,000 X

3. 分辨能力优于 1.5 nm，可应对微纳级结构表征

4. 加速电压在 1 kV–20 kV 区间内连续可调

5. 提供低、中、高三种真空模式，适配不同样品特性

6. 背散射探测器与二次电子探测器作为标准配置，能谱探测器为选配件

7. 采用台式结构，便于在科研、研发及检测类实验室中安装使用

8. 提供选型咨询服务，支持试样预约

应用领域

• 光伏材料缺陷检测

• 太阳能电池片微观形貌观察

• 薄膜材料表面结构分析

• 研发阶段质量控制

• 第三方检测机构材料表征

Q：该设备适合哪些应用？A：适用于纳米材料、半导体、碳材料、催化剂、陶瓷、锂电材料、光伏材料等高分辨形貌观察场景。

Q：是否支持元素分析？A：可根据需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素分析。

Q：如何获取报价？A：价格根据配置、探测器选项及应用需求确定，可通过平台询价入口获取选型建议，并预约试样。

如需了解 Phenom Pharos G2 在光伏材料缺陷分析中的配置方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价/留言入口提交样品类型与测试需求，获取选型建议，并预约试样。