粉体行业在线展览

产品

产品>

分析仪器设备>

半导体行业专用仪器

>磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

直接联系

科睿设备有限公司

英国

产品规格型号
参考报价:

面议

关注度:

656

产品介绍

技术参数:我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪

安装法兰口径:NW63CF,NW100CF

真空腔体内长度范围:150-400mm

真空腔体内端面直径:60-96

靶材直径: 1", 2" and 3"

靶材**厚度:4-6mm

冷却:水冷

特点:

100%超高真空(UHV)应用

独有的放射性沉积模式

在线Z轴驱动及倾斜

水冷时不会存在水汽

平衡靶和非平衡靶设计

高强度磁体应用于磁性材料

应用领域:

PVD沉积

金属涂层

纳米结构薄膜

多层镀层

反应溅射

射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射

硬质涂层

产品咨询

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

科睿设备有限公司

请填写您的姓名:*

请填写您的电话:*

请填写您的邮箱:*

请填写您的单位/公司名称:*

请提出您的问题:*

您需要的服务:

发送

中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款

磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸) - 656
科睿设备有限公司 的其他产品

FLOW

半导体行业专用仪器
相关搜索
关于我们
联系我们
成为参展商

© 2024 版权所有 - 京ICP证050428号