粉体行业在线展览
碳膜溅射设备 CS-200
面议
万德思诺
碳膜溅射设备 CS-200
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产品图片:
产品型号:
CS-200
产品介绍:
Dense carbon film for high temp. anneal
Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)
产品特点:
1. Key point for carbon process
- Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.
2. Good process experience for CC deposition
- AIST and SIC production company uses ULVAC system.
3. Optional items
- High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.
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