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MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备 M150A
面议
万德思诺
MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备 M150A
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产品图片:
产品型号:
M150A
产品介绍:
MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备M150A是一种新型氧化物成膜技术,具有节能安全、易操作等优点,可广泛应用于第四代半导体Ga2O3,直接宽带隙光电半导体材料 ZnO 等氧化物的薄膜沉积制造。
M150A 是青禾晶元开发的**一代 mist-CVD 氧化物薄膜沉积设备,致力于将半导体材料的制备技术推向新的时代。
产品特性:
技术参数:
溶液成长法单晶生长设备(TSSG法)
中型高速研磨设备 STC-610
快速高温退火设备RTA RSA-06
全自动晶片减薄机SGM-9100
桌上型精密切割机MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备 M150A
C2W低温热压键合设备 SAFP
高还原性低温热压对准键合设备 MAFP
高还原性低温热压键合设备 FATB
碳膜溅射设备 CS-200
碳膜去除设备 NE-550EX
激活退火设备 Ailesic-2000