粉体行业在线展览
氮化镓外延设备
面议
芯三代
氮化镓外延设备
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技术优势
芯三代公司自主研发的高性能氮化镓材料外延生长设备,满足未来市场对设备更高产能要求的同时,具有高外延均匀性、低外延缺陷、低外延运行成本、长维护周期和易于维护等特性。
工艺性能
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
等离子化学气相沉积系统-PECVD
HSE系列等离子刻蚀机